دسته: اسپاترینگ

ولتاژ خود-بایاس DC ایجاد شده در اسپاترینگ RF یا خوردگی نرخ برخورد یون‌های پلاسما به سطح هدف را افزایش می‌دهد که فشار محفظه، توان RF و ترکیب گاز فرآیند موثرند.

برخی از هدف‌های اسپاترینگ برای بهبود انتقال حرارت از هدف به کاتد جهت لایه‌نشانی کندوپاشی پایدار و افزایش طول عمر هدف، نیاز به صفحه پشتی یا Backing Plate دارند.

محققان هندی با بررسی اثر استفاده از مگنترون اسپاترینگ غیر تعادلی بر ویژگی‌های لایه نازک دی اکسید قلع، موفق به بهبود ویژگی‌های نوری، الکتریکی و ساختاری آن شدند.

اسپاترینگ فرکانس رادیویی یا اسپاترینگ RF، از انواع اسپاترینگ و روشی متداول برای لایه نشانی هدف‌های نارسانای الکتریکی، با قابلیت کنترل بیشتر نرخ لایه نشانی است.

تفاوت‌ها در طراحی مگنترون اسپاترینگ تعادلی و غیرتعادلی ناچیزست اما تفاوت کاراییشان قابل توجه می‌باشد و در مگنترون تعادلی قطب‌های آهنرباها دارای قدرت یکسانی‌اند.

مگنترون کاتدهای غیرتعادلی و تعادلی در سیستم‌های اسپاترینگ دارای مزایا و معایبی هستند که در مطلب “مگنترون اسپاترینگ تعادلی و غیرتعادلی” بیان شده‌اند.

به منظور کاهش ذرات هوا در محفظه لایه‌نشانی و تشکیل لایه‌ای تمیز، لایه‌های نازک در یک محفظه خلاء با فشاری کمتر از فشار هوای اتمسفر تهیه می‌شوند.

در کاربردهای علمی و صنعتی یکنواختی لایه های نازک اهمیت فراوان دارد وبا مگنترون اسپاترینگ با دقت بالا(کمتر از ۲% اختلاف در ضخامت بر روی زیرلایه)قابل دستیابی است.

افزایش مقاومت لایه های نازک مس به دلیل پدیده‌های مختلف مانند پراکندگی ناشی از عیوب (جای خالی، نابجایی، مرز دانه‌ها) و پراکندگی از سطح و فصل مشترک لایه می‌باشد.

مگنترون اسپاترینگ پالسی یک روش لایه نشانی بخار فیزیکی، برای تولید لایه‌های نازک از مواد مختلف رسانا یا نارسانا است که جایگزینی برای اسپاترینگ RF نیز می‌باشد.

در لایه نشانی همزمان، بیش از یک منبع لایه نشانی یا تارگت به کار گرفته می‌شوند تا طیف وسیعی از ترکیبات و آلیاژ‌های جدید با کیفیت‌های منحصر به فرد تولید شوند.

شرکت پوشش‌های نانوساختار،موفق به طراحی و ساخت دستگاه اسپاترینگ، لایه نشان کربن و تبخیر حرارتی – DSCT-T شد که امکان لایه نشانی به سه روش،دریک دستگاه را دارد.

لایه نشانی بر روی یک سطح بر اساس فرآیندهای مختلف پوشش‌دهی فیزیکی و شیمیایی می‌تواند ساختار سطح و خواص آن را تغییر دهد و منجر به استفاده در کاربردهای متنوعی شود.

تکنیک GLAD Sputtering یا زاویه‌دار کردن نگهدارنده زیرلایه چرخان نسبت به کاتد، حین فرایند لایه نشانی به روش اسپاترینگ، یک تکنیک کاربردی در صنعت لایه نازک است.