بلاگ

مگنترون کاتدهای غیرتعادلی و تعادلی در سیستم‌های اسپاترینگ دارای مزایا و معایبی هستند که در مطلب “مگنترون اسپاترینگ تعادلی و غیرتعادلی” بیان شده‌اند.

به منظور کاهش ذرات هوا در محفظه لایه‌نشانی و تشکیل لایه‌ای تمیز، لایه‌های نازک در یک محفظه خلاء با فشاری کمتر از فشار هوای اتمسفر تهیه می‌شوند.

در کاربردهای علمی و صنعتی یکنواختی لایه های نازک اهمیت فراوان دارد وبا مگنترون اسپاترینگ با دقت بالا(کمتر از ۲% اختلاف در ضخامت بر روی زیرلایه)قابل دستیابی است.

افزایش مقاومت لایه های نازک مس به دلیل پدیده‌های مختلف مانند پراکندگی ناشی از عیوب (جای خالی، نابجایی، مرز دانه‌ها) و پراکندگی از سطح و فصل مشترک لایه می‌باشد.

مگنترون اسپاترینگ پالسی یک روش لایه نشانی بخار فیزیکی، برای تولید لایه‌های نازک از مواد مختلف رسانا یا نارسانا است که جایگزینی برای اسپاترینگ RF نیز می‌باشد.

لیتوگرافی به ایجاد الگوی مشخص بر روی سطح با استفاده از ماسک‌های نوری گفته می‌شود و لیتوگرافی نوری یا فوتولیتوگرافی، رایج‌ترین نوع لیتوگرافی می‌باشد.

لایه نازک، لایه‌ای از مواد است که ضخامتی در بازه یک نانومتر تا چند میکرومتر دارد. ایجاد لایه نازک‌ها با استفاده از روش‌های لایه نشانی، اساس بسیاری از صنایع است.

اصلاح سطح به کمک پلاسما جهت بهبود خواص سطحی مواد، با پاک سازی آلاینده‌ها از سطح انجام می‌شود و فرآیند پلاسما در میکروفلوئید‌ها نیز مورد استفاده قرار می‌گیرد.

در لایه نشانی همزمان، بیش از یک منبع لایه نشانی یا تارگت به کار گرفته می‌شوند تا طیف وسیعی از ترکیبات و آلیاژ‌های جدید با کیفیت‌های منحصر به فرد تولید شوند.

پلاسمای تحت خلاء فرآیندی است که گاز در یک محیط کم فشار، مانند محفظه شیشه‌ای یونیزه می‌شود و با کنترل جریان گاز و ولتاژ، می‌تواند اثرات متمایزی را ایجاد کند.

شرکت پوشش‌های نانوساختار،موفق به طراحی و ساخت دستگاه اسپاترینگ، لایه نشان کربن و تبخیر حرارتی – DSCT-T شد که امکان لایه نشانی به سه روش،دریک دستگاه را دارد.

شرکـت پوشــش‌های نانوساختـار و ماهنامه فناوری نانو بیش از ۱۰ سال همکاری نزدیکی داشته و هر یک به سهم خود در توسعه و رونق فناوری، نقش به سزایی ایفا می‌کنند.

خراب شدن پمپ توربومولکولار در یک سیستم لایه نشانی، منجر به از کار افتادن کل سیستم می‌شود. پس توجه به نکاتی که در حفظ و نگهداری پمپ‌ها اهمیت دارد، ضروری است.

رسوب دهی فیزیکی بخار یا PVD ،مجموعه‌ای از روش‌های لایه نشانی در خلاء است که حین آن‌ها ماده جامدی بخار می‌شود و بر روی زیرلایه به شکل لایه نازک قرار می‌گیرد.

رسوب دهی شیمیایی بخاریا CVD ، فرایند شیمیایی ایجاد لایه‌هایی با کاربردهای گوناگون بر روی سطوح مختلف است و سطح موردنظر درمعرض بخار مواد شیمیایی قرار می‌گیرد.

در اسپاترینگ ،ذرات پرانرژی پلاسما یا گاز به سطح یک ماده جامد برخورد کرده وذرات میکروسکوپی ازآن جدا می‌شود.ایجاد یا حذف لایه‌های نانومتری،کاربرد فراوان دارد.