مراحل انجام لایه نشانی به روش اسپاترینگ (کندوپاش )

مراحل انجام لایه نشانی به روش اسپاترینگ (کندوپاش )

    –     ایجاد خلاء در محیط اسپاترینگ به منظور تخلیه محیط از هر نوع گازی

–    تزریق گاز آرگون به محیط (گاز مناسب برای اسپاترینگ به دلیل نجیب بودن و داشتن اتم های نسبتا سنگین)

–    یونیزه شدن گاز آرگون در میدان الکتریکی

–    حرکت شتابدار یون های آرگون که دارای بار الکتریکی مثبت هستند به سمت ماده هدف (تارگت) که در ولتاژ منفی ( کاتد ) قرار دارد.

–    جدا شدن اتم های ماده هدف در اثر ضربه یون های بزرگ آرگون و نشانده شدن روی زیرلایه

کندوپاش یا اُسپَرانی   به انگلیسی(Sputtering)  یکی از روش‌های لایه نشانی از فاز بخار است که بطور عمده برای تولید فیلم فلزات از نانو تا میکرو می‌باشد و تحت شرایط کنترل شده می‌توان نانوذراتی ۳ نانومتری هم به این شیوه بدست آورد. اما فرایند اسپاترینگ عبارتست از کندوپاش اتم‌های یا مولکولهای منبع یا هدف  (Target) و  یک فیلم با یونهای یک گاز خنثی که در پلاسما ایجاد شده و درمیدان ایجادکننده پلاسما شتاب می‌گیرند .ش  مانند سایر روش‌های لایه نشانی فیزیکی تحت شرایط خلا، روش کندوپاش نیز شامل سه مرحله ی تبخیر ماده ی منبع، انتقال بخار از منبع به جسم و تشکیل لایه نازک روی جسم با انباشت بخار منبع مورد نظر است. در روش کندوپاش، برای این‌که ماده ی منبع به فاز بخار درآید، از بر هم کنش فیزیکی ذره‌هایی که به ماده منبع برخورد می‌کنند استفاده می‌شود. ماده منبع که به ولتاژ منفی متصل است، نقش کاتد را دارد. با بمباران و برخورد ذرات پر انرژی به سطح منبع، اتم‌ها یا مولکول‌های آن از سطح جدا شده و به بیرون پرتاب می‌شوند و درمیدان ایجادکننده ی پلاسما شتاب می‌گیرند. جسم مورد نظر به ولتاژ مثبت متصل است و در واقع نقش آند را دارد، بنابراین لایه‌ای از جنس منبع روی آن انباشته می‌شود. این روش برای ایجاد پوشش و ساخت لایه‌های نازکی که کاربردهایی مانند اپتیکی، ذخیره‌سازی مغناطیسی و… دارند، استفاده می‌شود. (منیع ویکی پدیا)

جهت مشاهده فیلم مربوط به این مقاله می توانید در کانال تلگرام ما عضو شده و آن را ملاحظه نمایید :

https://t.me/nanostructuredcoatings